優(yōu)勢(shì)：

1、微光斑功能： 標(biāo)準(zhǔn)配置微光斑 光斑尺寸80x120微米。特殊光學(xué)設(shè)計(jì)與研磨級(jí)高精度Z軸搭配可自動(dòng)移除透明襯底背面反射.對(duì)焦過(guò)程中可自動(dòng)判定膜層的對(duì)焦位置，并通過(guò)光學(xué)狹縫克服透明襯底背后反射

2、采用訊號(hào)自動(dòng)對(duì)焦，量測(cè)訊號(hào)與對(duì)焦訊號(hào)為同一訊號(hào) 有效避免量測(cè)的位置誤差。

3、檢偏器自動(dòng)追蹤：大幅提升橢偏儀量測(cè)精度,特別有利于極薄膜層的材料分析以及ψ與Δ之精度

4、電動(dòng)自動(dòng)可調(diào)變衰減片：可自動(dòng)或手動(dòng)調(diào)整不同樣品訊號(hào)飽和程度(100%~0.1%)，并可分段設(shè)置UV訊號(hào)與可見(jiàn)光訊號(hào)強(qiáng)度以便獲取最佳量測(cè)訊號(hào)

5、軟件自動(dòng)分析擬合：提供膜厚 折射率預(yù)分析功能，未知材料的數(shù)據(jù)庫(kù)比對(duì)能力,軟件自動(dòng)分析簡(jiǎn)化操作,克服橢偏儀一向由專(zhuān)業(yè)人士操作帶來(lái)的量測(cè)困難。

6、遠(yuǎn)程遙控：突破橢偏儀需到場(chǎng)服務(wù)與培訓(xùn)之限制,大幅提升售后服務(wù)之效率

7、高質(zhì)量DUV光譜儀： 光譜范圍220nm-1100nm,（可選配至1700nm)分辨率<1nm 自帶半導(dǎo)體制冷,高動(dòng)態(tài)比，訊噪比盡可能的減小噪聲影響

8、自動(dòng)生成2D或3D Mapping 圖譜并自動(dòng)數(shù)據(jù)分析，光譜自動(dòng)保存，數(shù)據(jù)可匯總及上傳

9、以recipe設(shè)置 測(cè)試時(shí)間大幅縮短至1-3秒，提高測(cè)試效率。

10、設(shè)計(jì)上 采用抗紫外鈍化光纖雙光纖結(jié)構(gòu)，先進(jìn)的斷開(kāi)功能,大幅提升光譜穩(wěn)定性和長(zhǎng)期使用的可靠性。

11、高穩(wěn)定性 標(biāo)準(zhǔn)片 膜厚重復(fù)性精度<0.5A,折射率重復(fù)精度<0.0005

12、膜厚測(cè)試范圍1nm-20微米 可針對(duì)透明或不透明襯底測(cè)試

13、免費(fèi)建模

規(guī)格：

光學(xué)原理：

光波從接觸到光學(xué)組件表面，到離開(kāi)光學(xué)組件表面的短暫時(shí)間里，其偏極狀態(tài)（polarization state)一定會(huì)改變。橢圓偏光儀，既是一種用來(lái)量測(cè)光波穿透光學(xué)組件，或從光學(xué)組件表面反射前后偏極狀態(tài)改變情形的儀器。由于此種偏極狀態(tài)的改變是光波與光學(xué)組件材料產(chǎn)生交互作用的結(jié)果，因此可由偏極狀態(tài)的改變情形，反推得到光學(xué)組件表面的物理特性。這里所謂的光學(xué)組件表面有可能是光學(xué)組件的表面，也有可能是單層膜或多層膜的堆棧，也可能是光學(xué)組件表面的污染層。
光藉由非零度入射角至樣品表面而反射, 因?yàn)闃悠返暮穸燃皩?duì)光的反應(yīng)（吸收或透明…）而產(chǎn)生極化狀態(tài)的改變（產(chǎn)生相位及振幅的改變），此量測(cè)方式我們稱(chēng)為橢圓儀量測(cè)。量測(cè)時(shí)對(duì)于每個(gè)波長(zhǎng),我們得到兩個(gè)獨(dú)立的參數(shù)Ψ and △